安徽纯源镀膜科技有限公司主要从事真空镀膜设备的设计、研发、制造、销售、售后服务和镀膜生产服务,在纯离子镀膜(Pure Ion Coating,简称PIC)、化学气相沉积(CVD)、磁控溅射、多弧离子镀、离子束刻蚀清洗等真空镀膜应用领域均拥有国内外尖端技术。公司目前拥有50多项知识产权,其中,多项专利设备纯离子镀膜(Pure Ion Coating,简称PIC)能够制造出性能优越的金属膜、合金膜、金属化合物膜和金刚石薄膜;另一项专利产品NDT(New Diamond Technology)能够制成性能优越稳定的金刚石薄膜。膜层系列有Ta-C、DLC、低温氮化物膜 (TiN,CrN等)、碳化物膜 (CrC等)和高致密金属/合金膜等。
根据膜层种类和应用行业的不同,纯源镀膜制备的纳米/微米级膜层具有镀膜温度低、无热应力、高纯度、高致密、超硬、无颗粒、耐磨损、摩擦系数小、防刮花、耐腐蚀、均匀性好、粘附性好、导电性能可调、高热导、生物相容性、抑菌性和红外/激光透过率高(适当膜层材料)等特点,膜层可以广泛应用在3C消费电子、半导体、交通工具、刀具模具、新能源、医疗、军工航天和科研等行业。
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